Beberapa partikel atau molekul gas yang tidak terkumpul dapat menimbulkan konsekuensi yang sangat serius dalam beberapa proses. Bayangkan saja dampak buruk yang dapat ditimbulkan oleh udara yang terkontaminasi terhadap pembuatan semikonduktor, hard disk, dan proses-proses sensitif lainnya.
Dalam manufaktur semikonduktor, metode produksi canggih ujung depan menuntut pasokan udara yang sangat bersih dengan persyaratan kebersihan yang terus meningkat. Ukuran partikel kritis untuk lingkungan wafer sekarang berada di bawah 25 nm (2009) dan prediksi dibuat bahwa ukuran ini akan terus menyusut menuju 10 nm pada tahun 2017. Kontaminasi molekuler di udara (AMC) kini menjadi masalah utama bagi semua pabrik mikroelektronik canggih. Berbagai macam efek AMC telah diamati berdampak pada hasil produksi. Misalnya korosi asam pada hard disk atau wafer, pengendapan organik yang dapat terkondensasi pada permukaan sensitif, atau paparan amonia tingkat rendah semuanya telah terbukti mempengaruhi beragam langkah proses.
Inti dari ruang bersih adalah filternya, namun ada sejumlah pertimbangan mengenai klasifikasi ruangan, pilihan filter, dan bagaimana filter memengaruhi lingkungan.
SAF berada pada posisi yang tepat untuk merekomendasikan solusi terbaik untuk pengendalian partikel dan AMC tingkat lanjut berkat pengalaman lebih dari 16 tahun di bidang pengendalian kontaminasi mikroelektronik dan semikonduktor, dan melalui keterlibatan kami dalam Peta Jalan Teknologi Internasional untuk Semikonduktor.
HEPA, ULPA, dan filter molekuler diproduksi dalam lingkungan terkendali di pabrik bersertifikasi ISO 9000 SAF. Kami dapat memproduksi jenis filter yang sama di beberapa lokasi produksi. Kapasitas produksi kami yang besar menjamin ketersediaan produk kami setiap saat di seluruh dunia.
Melindungi:
-
Wafer dan semikonduktor
-
Peralatan proses mikroelektronik
-
Hard disk drive
-
Papan sirkuit tercetak
-
Tampilan panel datar
-
Panel surya